半导体行业再起波澜，一桩知识产权诉讼浮出水面，所谓的先进的技术又是“偷来的”？

  8月13日，国产刻蚀设备商北京屹唐半导体科技股份有限公司（简称“屹唐股份”，股票代码：688729.SH）正式对外发布了重要的公告，宣布就核心技术秘密被非法获取一事，向北京知识产权法院提起诉讼，被告为全球半导体设备巨头——应用材料公司（Applied Materials，Inc.，简称“应用材料”）。此次诉讼标的金额高达人民币9999万元，引发业界广泛关注。

  值得注意的是，这两家行业巨头之间的法律纠纷并非首次。将时钟拨回至大约两年前，应用材料公司也曾在美国，对屹唐股份所收购运营的“全资子公司”Mattson提起诉讼。

  2023年6月，有新闻媒体报道显示，应用材料对其中国竞争对手Mattson采取了法律行动，指控该公司参与长达14个月的窃取宝贵商业机密的活动。

  应用材料指出，Mattson系统性地挖走了应用材料公司17名掌握敏感技术信息的资深工程师。通过这一些前员工，Mattson被指控非法获取了关键的商业机密，这中间还包括涉及泄露的信息包括用于沉积的新型Chamber或反应器的3D渲染、详细尺寸和材料成分，这是芯片制作的完整过程中重复多次的重要步骤，在该过程中，化学薄膜沉积在晶圆上以形成多层绝缘和导电材料。应用材料表示，已掌握间谍活动的确凿证据，并采取法律行动以捍卫其知识产权。

  作为回应，Mattson公司否认了所有指控，认为其毫无根据。其中一名涉案的前应用材料公司员工承认曾将文件发送至个人账户，但辩称此举仅为保留个人成就的“纪念品”，并无意在新职位上使用或披露这些机密信息。然而，应用材料反驳称该员工曾有下载数据到USB等其他可疑行为。

  应用材料是全球半导体及显示设备制造业的巨头，自1967年成立以来，一直处在行业领导地位，并且是最早进入中国市场的国际芯片设备供应商。与其形成竞争关系的Mattson Technology Inc.（MTI）则为全球12英寸晶圆厂客户提供Dry Strip、Dry Etch、RTP、MSA等设备及应用方案，于1988年成立于美国加州。2016年，屹唐股份完成了对Mattson的私有化收购和运营，使其从美股退市。

  值得一提的是，Mattson原为一家美国公司，后被中国北京的屹唐股份完成私有化收购并负责运营。这起诉讼也因此成为中美半导体产业激烈竞争背景下的一个标志性法律案件。

  今年8月13日，屹唐股份正式开启反击的号角，诉讼金额高达人民币9999万元。

  屹唐股份认为应用材料非法获取并使用了其等离子体源及晶圆表面处理相关的核心技术秘密，并在中国境内以申请专利的方式披露了该技术秘密，且将该专利申请权据为己有，违反了《中华人民共和国反不正当竞争法》的规定，构成侵犯商业机密的违背法律规定的行为，对屹唐股份的知识产权和经济利益导致非常严重的损害。

  屹唐股份已就该事项向北京知识产权法院提起诉讼，于近日收到法院出具的《民事案件受理及举证通知书》等相关材料，案号为（2025）京73民初908号。截至本公告披露日，该案件已立案，尚未开庭审理。

  屹唐股份称，被告应用材料公司招聘了曾在原告全资子公司Mattson的两名涉案员工。该两名员工了解公司关于等离子体的产生和处理方法的核心技术，熟悉和掌握相关设备结构和技术工艺。在MTI公司任职期间，两员工均签署了保密协议，对包括涉案技术秘密在内的技术信息承担严格的保密义务。

  证据显示，应用材料公司招聘该两名员工入职后，向中国国家知识产权局提交了一份发明专利申请，其中主要发明人即为前述两名员工，该专利申请披露了原告与MTI公司共同所有的涉案技术秘密。

  被告非法获取和使用原告的技术秘密，并在中国境内以申请专利的方式披露了该技术秘密，将该专利申请权据为己有。经查，被告涉嫌实行将使用涉案技术秘密的产品向中国境内的客户进行推广销售的行为，进一步造成了对原告商业机密权益的侵害。

  在半导体领域，企业间技术秘密和专利纠纷并不少见，它们往往涉及核心技术人员的跳槽、商业机密的泄露以及专利权的归属争议。

  就比如，前阵子闹得沸沸扬扬的台积电2nm泄露世界，有关技术和机密就泄露疑似泄露给了东京电子（TEL）。紧接着，东京电子也在官方发布了重要的公告，承认其中国台湾子公司1名前员工涉入此案。

  核心矛盾在于“人才流动”与“商业机密保护”之间的模糊界限。而现在，半导体行业的“知识产权保卫战”已悄然打响。

  这场诉讼不仅仅是两家公司之间的纠纷，它在更广阔的半导体行业中具备极其重大的象征意义。