在晶圆完结一切的出产的根本工艺后,榜首个首要良品率就被核算出来了。对此良品率有多种不同的叫法,如FAB 良品率、出产线良品率、累积晶圆厂良品率或CUM”良品率。
不管怎样命名,都是用完结出产的晶圆总数除以,总投人片数的一个百分比来表明。不相同的产品具有不同的元件、特征工艺尺度和密度因子。将会针对产品类型而不是对整个出产线核算一个良品率。
要得到CUM 良品率,需求首要核算各制程站良品率(station yield),即以脱离单一制程站的晶圆数比进人此制程站的晶圆数:
晶圆出产 CUM 良品率=良品率(制程站 1)x良品率(制程站 2)x …x 良品率(制程站 n)。
下图列出了一个11步的晶圆工艺制程,与咱们在曾经运用的办法相同。图中第3列列出了各制程站的典型良品率。累积良品率列在第5列。对单一产品来说,从制程站良晶率核算出的 CUM 良品率与经过晶圆进出核算出的良品率是相同的,输出的晶圆数除以输人的晶圆数。也就是说,对这一产品累积良品率与简略办法算出的 CUM 良品率是持平的。有必要留意一下的是即便单个制程站有很高的良品率,CUM 良品率也将跟着晶圆经过工艺持续下降。现代的集成电路将需求 300-500 个工艺过程,这对坚持有收益的出产率将是巨大的应战。成功的晶圆制作运营有必要使累积制作良品率超越90%才干坚持盈余和具有竞争性。
晶圆出产CUM 良品率在50%到95%之问,取决于一系列的要素。核算出来的 CUM 良品率被用于方案出产,或被工程部和管理者作为工艺有用性的一个目标。
在芯片工业中,还有一个把晶圆切开的工作需求处理,这是直接影响芯片良品率的又一重要环节,这就需求对划片机的精度和安稳才能有肯定的要求。
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